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阴离子掺杂对KDP晶体光散射的影响

张建芹 , 王圣来 , 房昌水 , 孙洵 , 顾庆天

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00268

选用硫酸钾、硝酸钾和氯化钾作为掺杂剂, 采用传统降温法和“点籽晶”快速法生长了磷酸二氢钾(KDP)晶体, 利用超显微法对KDP晶体中的散射颗粒进行了观察, 研究了SO42- 、NO 3- 和Cl - 三种阴离子掺杂对晶体中光散射的影响. 结果表明, 掺杂后SO42-造成晶体光散射的轻度增加; 而NO 3 -和Cl - 离子掺杂后, 对于传统降温法所得晶体, 散射明显加重, 对于“点籽晶”快速法所得晶体的散射影响不大.

关键词: 掺杂剂 , KDP crystal , ultramicroscopic method , light scatter

实时控制过饱和度降温法生长KDP晶体

王圣来 , 付有君 , 孙洵 , 李义平 , 曾红 , 高樟寿

无机材料学报

用变压器型电导仪实现了KDP晶体生长过程中溶液的浓度和过饱和度的实时测量与控制,测量精度±0.03g KDP/100g HO(±0.10%相对过饱和度),控制精度与测量精度相当.过饱和度实时控制系统提供了一种方法,可以研究在不同工艺条件生长KDP晶体时,过饱和度与晶体生长和性能的关系.用分析纯原料生长KDP晶体,发现随着过饱和度的增大,晶体的生长速度加快,晶体的均匀性降低.过饱和度实时控制系统可以使KDP晶体在相对恒定的过饱和度下生长,提高了晶体生长的均匀性,抑制了生长层和散射颗粒的产生,有利于提高晶体的光学透过率和光伤阈值.

关键词: 过饱和度 , KDP crystal , automatic control , growth

Ca2+离子对 KDP晶体生长习性及性能的影响

牟晓明 , 王圣来 , 房昌水 , 孙洵 , 顾庆天 , 李毅平

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.01103

Ca2+是KDP原料中一种常见的杂质离子, 通过传统降温法和“点籽晶”快速生长法研究了Ca2+离子对KDP晶体生长习性及性能的影响. 实验表明, Ca2+低浓度掺杂时对溶液的稳定性及生长过程没有明显的影响; 高浓度时溶液稳定性有所降低, 经常出现杂晶; 快速生长时, 晶体柱面易出现包藏, 晶体的紫外透过呈下降趋势, 晶体中散射颗粒密度随掺杂浓度的增加而增大.

关键词: Ca2+ , KDP crystal , crystal growth , rapid growth

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